沙江波
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井晓天
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楼秉哲
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沈福三
金属学报
本文通过力学分析和扫描电镜观察,研究了点接触条件下有表面滑动和无表面滑动摩擦时的接触疲劳裂纹萌生和扩张行为,指出了接触疲劳破坏的典型特征和一般特征.结果表明,在边界润滑条件下,接触疲劳裂纹萌生于表面,以Ⅱ型方式向纵深扩张,裂纹扩张走向与裂纹尖端处最大切应力走向一致.有表面滑动摩擦时,典型的裂纹扩张路径(或剥落坑形状)由呈U字形的四个阶段组成,无表面滑动摩擦时,扩张路径则由V字形的三阶段组成;一般的破坏以连续剥落的方式发展,它由相应条件的典型扩张各阶段随机组成.
关键词:
接触疲劳
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stress
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crack initiation
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crack growth.
张兴旺
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游经碧
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陈诺夫
无机材料学报
doi:10.3724/SP.J.1077.2007.00385
立方氮化硼(c-BN)具有优异的物理和化学性质, 在力学、光学和电子学等方面有着广泛的应用前景. 自上世纪80年代开始, 低压沉积c-BN薄膜的研究迅速发展, 到90年代中期达到高潮, 随后进展缓慢, c-BN薄膜研究转入低潮. 近年来, c-BN薄膜研究在几方面取得了突破, 如获得与衬底粘附良好、厚度超过1μm的c-BN厚膜; 成功实现了c-BN单晶薄膜的异质外延生长; 此外, 在c-BN薄膜力学性质和过渡层微结构研究方面也取得了进展. 本文主要评述最近几年c-BN薄膜研究在以上几方面取得的最新进展.
关键词:
立方氮化硼薄膜
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heteroepitaxy
,
stress
,
adhesion
王晓丹
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赵志伟
,
王静雅
,
徐军
,
GilbertBourdet
,
J.-C.Chanteloup
无机材料学报
doi:10.3724/SP.J.1077.2008.00125
采用热键合技术制备了Yb:Y3Al5O12/Y3Al5O12(Yb:YAG/YAG)复合晶体, 对复合晶体进行了结构表征和键合质量检测. 利用光学显微镜和扫描电镜观察了复合晶体横截面的形貌; 在偏光显微镜下观察键合区域的应力, 利用干涉条纹来表征复合晶体的光学均匀性; 通过红外透过光谱的测量来检测复合晶体的键合质量. 实验结果表明: 热键合技术制备的Yb:YAG/YAG复合晶体键合界面处无界面缺陷, 不存在复合界面空间过渡层, 光学均匀性良好.
关键词:
Yb:YAG/YAG
,
bonding quality
,
stress
,
optical homogeneity
,
thermal bonding
李尧
,
彭书华
,
杨俊杰
稀有金属
doi:10.13373/j.cnki.cjrm.2014.06.006
在不同脉冲电流条件下对纯钽试样进行拉伸实验,结果表明脉冲电流降低了加工硬化程度,可改善金属的塑性变形能力,并且随着脉冲电流密度的增加,其抗拉强度降低,延伸率提高,当电流密度J=7.64×102 A·cm-2时,延伸率达到50.7%,提高幅度为10%,同时抗拉强度从380 MPa降低至300 MPa,降幅为21%.针对实测的流动应力应变曲线,结合Hollomon模型和Voce模型,考虑脉冲电流对加工硬化的影响,提出H-V综合模型,建立塑性变形本构方程,反映脉冲电流对应力应变的影响.在一定脉冲电流条件下,确定了每种模型的9个最佳参数,利用已确定的模型对拉伸应力应变曲线进行模拟,并与实测的曲线对比验证.模拟结果显示,在变形初期阶段,3种模型之间模拟结果差别都很小,并且模拟值与实际值差异很小,预测准确度较高.随着应变的增大,差异越来越明显,H-V综合模型、Voce模型、Hollomon模型对大应变的模拟精度依次增加,3种模型的趋势线拟合决定系数R2分别为0.99900,0.96409和0.88368,均方差分别为2.42,26.32,39.26.H-V模型模拟效果最佳,能更准确地描述纯钽在电致塑性效应过程中的应力流动行为.
关键词:
电致塑性效应
,
脉冲电流
,
本构方程
,
加工硬化
,
应力
,
应变
樊浩
,
王威
,
苏三庆
,
陈磊
材料科学与工程学报
通过对Q345B小孔缺陷试件及无缺陷试件施加轴向拉伸荷载,分析其表面的磁记忆信号,发现法向磁场强度可用来对试件的危险区域进行定位,弹性阶段磁记忆曲线近似斜直线,塑性阶段磁记忆曲线出现非线性变化.梯度曲线在应力集中处有最大值,且其峰值与试件工作应力有较强的指数关系,可利用梯度峰值表征构件所受的应力.
关键词:
钢结构
,
磁记忆
,
拉伸试验
,
梯度峰值
,
应力
许春玉
,
史萌
,
闫珂柱
连铸
doi:10.3969/j.issn.1007-5461.2014.06.008
采用脉冲激光沉积(PLD)法在Si(111)衬底上制备稀土Eu3+掺杂的ZnO薄膜材料,分别在纯氧和真空气氛中进行退火处理.XRD图谱中仅观察到尖锐的ZnO(002)衍射峰,表明ZnO∶Eu3+,Li+薄膜具有良好的c轴取向.薄膜的结构参数显示:在纯氧气氛中退火的样品具有较大的晶粒尺寸且应力较小,表明在纯氧中退火的样品具有较好的结晶质量.通过光致发光谱发现,在纯氧中退火的样品的IUV/IDL比值较大,说明在纯氧中退火的样品缺陷去除更充分,结晶质量更好.当用395 nm光激发样品时,仅发现Eu3+位于595 nm附近的5Do→7F1磁偶极跃迁峰.并没有发现Eu3+在613 nm附近的特征波长发射,表明掺杂的Eu3+占据了ZnO基质反演对称中心格位.
关键词:
薄膜光学
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氧化锌
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退火
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应力
,
光致发光